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另一部分虚焊焊点往往在一年甚至更长的时间才出现开路的现象，使产品停止工作，造成损失。虚焊有其隐蔽性、故障出现的偶然性以及系统崩溃损失的重大性，不可忽视。研究虚焊的成因，降低其危害，是我国从电子制造大国向电子制造强国发展必须重视的重要课题。导致虚焊的原因大致分为几个方面：1）元器件因素；2）基板（通常为PCB）因素；3）助焊剂、焊料因素；四、工艺参数及其他因素。下面进行详细分析。1元器件因素引起的虚焊及其预防元器件可焊部分的金属镀层厚度不够、氧化、污染、变形都可造成虚焊的结果。可焊部分的金属镀层厚度不够通常元器件可焊面镀有一定厚度的、银白色的、均匀的易焊锡层，如果镀层太薄或者镀层不均匀，以及铜基镀锡或钢基镀铜再镀锡，其铜和锡之间相互接触形成的铜锡界面，两种金属长时间接触就会相互渗透形成合金层扩散，使锡层变薄，导致焊面的可焊性下降。（可焊性指金属表面被熔融焊料润湿的能力）购买长期良好合作的大公司元器件可降低此原因造成的虚焊风险。元器件可焊面氧化电子元器件由于保存时间过长或者保存条件不当，都可以造成电子元器件引脚或焊端表面氧化，从而造成虚焊的产生。氧化后的焊面发灰、发黑。

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通常拆封后烘烤方式来去除板内湿气，烘烤条件为110～120℃，1h。(**长时间不要超过h)。化金板真空包装前后之存放条件:温度<30℃，相对湿度<60%.真空包装后有效保存时间半年。储存时间超过六个月时，为了避免板材储藏湿气造成爆板,通常拆封后用烘烤方式来去除板内湿气，烘烤条件为120℃，1h。(**长时间不要超过2h)。喷锡板真空包装前后之存放条件：温度<25℃,相对湿度<60%.真空包装后有效保存时间一年。储存时间超过六个月时，为了避免板材储藏湿气造成爆板,通常拆封后用烘烤方式来去除板内湿气,烘烤条件为120℃，1h。(**长时间不要超过h)。PCB污染造成虚焊及预防：PCB板在生产过程中，PCB收货、存储，SMT印刷、贴片，THT插件、波峰焊等工序，操作人员都要与PCB接触，灰尘、油污及汗渍均会污染焊盘，从而使PCB可焊性下降，造成虚焊。保持洁净的生产环境，按生产工艺操作规程操作，是避免PCB污染的良好习惯。发现有污染的PCB，应清洗除污烘干后方可使用。PCB变形造成虚焊及预防：PCB变形后，元件贴装的共面性变差，部分元件脚与焊盘悬空（距离较小，可能不然会造成空焊），造成虚焊。特别是SMT工艺中的BGA、QFP封装元件。形成虚焊的可能性较大。中山中压场效应管现货盟科电子MOS管可以方便地用作恒流源。

三极管是流控型器件，MOS管是压控型器件，可控硅不单单是流控型器件，稍微复杂一点。分别介绍。三极管的控制方式三极管是常用的电子元器件，可以用作开关，也可以用作信号放大。三极管分为NPN型和PNP型，当三极管的PN结正向偏置之后，三极管导通。对于NPN三极管而言：在基极是高电平时，三极管导通；在基极是低电平时，三极管截至。对于PNP三极管而言：在基极是高电平时，三极管截至；在基极是低电平时，三极管导通。MOS管的控制方式MOS管是压控型的器件，与三极管相比较，其过电流能力会更大。MOS管分为NMOS管和PMOS管。其导通条件不一样。NMOS管，在Vgs>0时导通，Vgs<><0时导通，vgs>0截至；可控硅的控制方式可控硅的控制方式稍微复杂一点，可控硅共有四个工作象限，而且可控硅一旦导通，移除门极触发信号后，依然导通不会关断。可控硅的导通条件：门极存在满足条件的触发电流，T1和T2存在大于管压降的电压。可控硅的截至条件：门极触发信号移除，T1和T2之间的电流小于维持电流。

IC脚变形后，应整形检查后方可贴装。（如QFP可在平整的钢板或玻璃上修正和检查）2基板（通常为PCB）因素引起的虚焊及其预防在电子装联过程中，PCB的氧化、污染、变形等都可造成虚焊。（PCB插装孔、焊盘设计不合理也是造成虚焊的原因之一，在此不予讨论）。PCB氧化造成虚焊及预防PCB由于保存时间过长或者保存条件不当，都可以造成焊盘、插装孔壁氧化，从而造成虚焊的产生。氧化后的焊盘，失去金属光泽，发灰、发黑，也有目检没有异常的情况。对疑是氧化的PCB，要按标准进行可焊性试验，结果良好方可使用。以下为各种表面处理的PCB存储条件、存储期限及烘烤条件：化银板真空包装前后之存放条件:温度<30℃，相对湿度<60%.真空包装后有效保存时间半年至一年。储存时间超过六个月时，为了避免板材储藏湿气造成爆板,通常拆封后用烘烤方式来去除板内湿气，烘烤条件为120℃，1h。(**长时间不要超过2h)，使用干净清洁之**烤箱，且化银板**上下一面需先以铝箔纸覆盖,以避免银面氧化或有介电质吸附污染。osp板真空包装前后之存放条件:温度20～30℃，相对湿度<50%.真空包装后有效保存时间3个月至一年。储存时间超过六个月时。为了避免板材储藏湿气造成爆板。盟科电子MOS管可应用于放大。

目视可检查出较为严重的氧化，对于氧化后的电子元器件，或弃之不用，或去氧化处理合格后再用。一般处理氧化层采用外力擦、刮；微酸清洗；涂抹助焊剂，然后搪锡使用。（表面贴装元器件因其封装体积小，氧化一般不易处理，通常退回厂家换货或报废处理）元器件是否氧化除目检以外，还有较为复杂详细的可焊性试验检测标准，条件不具备的，可用手工、波峰焊或回流焊方法，对元器件进行批次抽样试焊。电子元器件储存条件及储存期见下表：元器件可焊面的污染在电子产品生产中，元器件要经过来料接收清点、存储、发料、成型和插件（THT工艺）、SMC和SMD的上下料、贴装和手工补焊等工序或操作，难免会产生灰尘、油污及汗渍的污染，造成电子元器件焊面的可焊性下降。在电子装联生产场所，保持洁净的生产环境，穿戴防护用品，严格按操作规程操作，是防止元器件污染的有效措施。元器件引脚变形SMD器件，特别是其中细脚间间距的QFP、SOP封装器件，引脚极易损伤变形，引脚共面性变差，贴装后，部分引脚未紧贴焊盘，造成虚焊，见下图1：预防:对细间距贴装IC，用**工具取放，切记不能用手直接触碰引脚，操作过程中，防止IC跌落，QFP常用盘装，SOP一般为杆式包装。生产过程中切忌弯曲）。mos管代工选择深圳盟科电子。珠海场效应管MOSFET

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场效应管是只要一种载流子参与导电，用输入电压控制输出电流的半导体器件。有N沟道器件和P沟道器件。有结型场效应三极管JFET(JunctionFieldEffectTransister)和绝缘栅型场效应三极管FET之分。FET也称金属-氧化物-半导体三极管MOSFET。MOS场效应管有增强型（EnhancementMOS或EMOS）和耗尽型(MOS或DMOS）两大类，每一类有N沟道和P沟道两种导电类型。场效应管有三个电极：D(Drain)称为漏极，相当双极型三极管的集电极；G(Gate)称为栅极，相当于双极型三极管的基极；S(Source)称为源极，相当于双极型三极管的发射极。增强型MOS(EMOS)场效应管MOSFET根本上是一种左右对称的拓扑构造，它是在P型半导体上生成一层SiO2薄膜绝缘层，然后用光刻工艺扩散两个高掺杂的N型区，从N型区引出电极，一个是漏极D，一个是源极S。在源极和漏极之间的绝缘层上镀一层金属铝作为栅极G。P型半导体称为衬底(substrat)，用符号B表示。工作原理1．沟道构成原理当Vgs=0V时，漏源之间相当两个背靠背的二极管，在D、S之间加上电压，不会在D、S间构成电流。当栅极加有电压时，若0＜Vgs＜Vgs(th)时（VGS(th)称为开启电压），经过栅极和衬底间的电容作用，将靠近栅极下方的P型半导体中的空穴向下方排挤。深圳高压场效应管有哪些

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