温州全自动双盘金相磨抛机

金相磨抛机（双盘自动）PC-2000产品特点：7寸触摸屏操作控制；压力可通过触摸屏设定，精确力度控制；采用西门子变频器和日本SMC气动元件；通过编程实现连续制样，每个工序完成自动停机，方便更换抛光组织物，同时可以暂停查看制样效果，每部工序计时，能精确的制样和节省制样时间。同时也可以通过手动操作参数制样，方便制样多样性；一次可制样1-6个；自动锁紧功能7、LED灯照明；锥度磨盘系统，更换清理更容易；大口径的排水管道，解决易堵的问题；水流量可调。金相磨抛机（全自动）采用LED灯照明，一次可制样1-6个。温州全自动双盘金相磨抛机

金相磨抛机：手工磨光主要使用干砂纸，机械磨光要求使用水砂纸。这两种砂纸的主要区别在纸基和粘结剂上。水砂纸自然要求纸基＝粘结剂都能防水。它们的磨料基本相同，主要有人造刚玉、碳化硅及氧化铝。按照磨料颗粒粗细尺寸砂纸分为各种规格，分别编号。磨料尺寸一般用“粒度”单位。对用筛选法获得的磨粒来说，粒度号是用1英寸长度上有多少个孔眼的筛网来确定的。例如10号粒度是指1英寸长度上有10个孔眼的筛网；如果磨粒的粒度以它的实际尺寸来表示，就用“W”单位，这种磨粒也称为微粉。如28微米的微粉其粒度号为W28。武汉全自动双盘金相磨抛机制样设备厂家金相磨抛机可除去金相试样磨面上由细磨留下的磨痕，成为平整无疵的镜面。

金相磨抛机：一般把单相合金或纯金属的化学浸蚀主要看作是化学溶解过程。浸蚀剂首先把磨面表层很薄的变形层溶解掉，接着就对晶界起化学溶解作用。这是因为晶界上原子排列得特别紊乱，其自由能也较高，所以晶界处较容易受浸蚀而呈沟凹，见图(1-15)(b)。这时显微镜下就可看到固溶体或纯金属的多面体晶粒。若继续浸蚀则会对晶粒产生溶解作用。金属原子的溶解大都是沿原子排列密的面进行的。由于金相试样一般都是多晶体，各晶粒的取向不会一致，因此在同一磨面上各晶粒原子排列位向是不同的，所以每一颗晶粒溶解的结果不一样，都把按原子排列密的面露在表面，也即浸蚀后每个晶粒的面与原磨面各倾了一定的角度。。在垂直照明下，各晶粒的反射光方向不一致，就显示出亮度不一致的晶粒。

金相磨抛机磨抛：取下塑料挡水圈及压圈，将背胶的抛光织物粘贴在磨抛盘上。如果采用不带背胶的抛光织物，则应平铺于磨抛盘上。注意在粘贴或平铺抛光织物时，要保证平整和粘贴牢固。将压圈紧压在磨抛盘上，从而固定抛光织物。注意压圈一定要压紧压实，尤其是采用不带背胶的抛光织物进行抛光时，更应注意。在抛光织物表面滴上适量的抛光液或涂上适量的抛光膏。使用抛光膏要注意加少量的水才能进行抛光。放回挡水圈，并将旋钮开关旋转至开启位置，此时电源指示灯亮起，磨拋盘开始旋转，金相磨抛机外壳采用新型环保工程塑料材料一体成型。

金相磨抛机单步操作界面：此操作界面有三种操作方式，自动制备、手动制备，磨头操作。所有的操作都是同样的参数。首先在参数设置区设置好参数，同理选择好磨盘与磨头旋转方向。自动制备：磨盘与磨盘同时转动，当设定时间结束后制备进程就会结束，制备步骤不一样参数每一次都得需要更改。手动制备：如果试样不能使用标准试样移动盘或者试样夹具座进行制备，可以手动制备，或者在自动制备过程中没有达到理想制样可以通过手动制备解决。（当手动研磨时，注意不要接触到研磨盘！不要在转盘旋转时尝试从托盘中取出试样！当转盘转动时，确保手部远离转盘外且远离防溅碗！）磨头转动：可以用着抛光使用，但是所需要的压力很小。注：在所有的制备进程中，水阀都可以手动打开或者关闭。 金相磨抛机底盘转动平稳，噪音低，支持快速转换盘系统。宁波单盘自动金相磨抛机制样设备厂家

金相磨抛机（单盘/双盘）三档定速：300、500、800r/min，可自定义。温州全自动双盘金相磨抛机

金相试样操作制备过程中，试样的磨光与抛光是两项至关重要的工序，通常是选用金相试样预磨机和金相试样抛光机二种设备来完结，为习惯中国工业和科技开展的需求，联系用户的运用需求，新规划制造成金相磨抛机的运用简单方便。金相磨抛机外形新颖漂亮，转变平稳，噪音低，它的机架全体和集污盘、罩、盖等均选用不锈钢板制成，经久耐用，保护养护极为便利，在运用时只需替换磨盘或抛光盘，就能完结各种试样的粗磨，细磨、干磨、湿磨及抛光等各道工序，金相磨抛机是一种极为抱负和完善的金相制样设备。温州全自动双盘金相磨抛机

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