昆山盐酸腐蚀生产厂家
晶间腐蚀，GB/T3246.1-2002 铝及铝合金加工制品显微组织检验方法，GB/T3246.2-2002 铝及铝合金加工制品低倍组织检验方法，GB/T7998-87 铝合金晶间腐蚀测定法， GB/T7998-2005 铝合金晶间腐蚀测定法生产中主要是过烧检验，特征为：复熔球、晶界三角、晶界加宽。晶粒度也是很重要的检验项目，经覆膜处理后在偏光下观察。请查阅GB/T3246-2000 由国家标准的。可以用NaOH溶液80~100g/L,室温下浸蚀3~30分钟。可以看到组织缺陷。软合金制品及铸轧板带浸蚀检测晶粒度：42%的HF5ml37%的HC175ml65%~68%的HNO3 25ml适当时间立即用水清洗。反复多次至晶粒清楚为止。低倍加热腐蚀样品托盘可完全取出，清洗容易。昆山盐酸腐蚀生产厂家
电解抛光腐蚀缺点，特别适合于容易产生塑性变形而引起加工硬化的金属材料和硬度较低的单相合金，比如高锰钢、有色金属、易剥落硬质点的合金和奥氏体不锈钢等。尽管电解抛光有如上优点，但它仍不能完全代替机械抛光，因为电解抛光对金属材料化学成分的不均匀性、显微偏析特别敏感，所以具有偏析的金属材料基本上不能进行电解抛光。含有夹杂物的金属材料，如果夹杂物被电解液浸蚀，则夹杂物有部分或全部被抛掉，这样就无法对夹杂物进行分析。如果夹杂物不被电解液浸蚀，则夹杂物保留下来在抛光面上形成突起。对于只有两相的金属材料，如果这两个相的电化学性相差很大，则电解抛光时会产生浮雕。嘉兴电解抛光腐蚀按钮操作低倍加热腐蚀采用计算机及可控硅控制低倍组织热酸蚀过程，独特的PID温度控制计算方法。
电解抛光腐蚀，贵金属及其合金电解浸蚀剂和电解抛光液表
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浸蚀剂名称及成分 |
使用方法 |
适用范围 |
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氯化钾过饱和 过溶液 400亳升 盐酸 几滴 |
直流电电流密度0.07~0.09安/厘米2 阳极：不锈钢 电解+机械联合抛光法， 时间2~3分钟 |
纯金的电解抛光和电解浸蚀。 |
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硫脲 8~10克 硫酸 12亳升 乙酸 40亳升 |
直流电： 10~15伏 温度： 常温 时间： 10~60秒 |
金基合金的电解浸蚀。
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硫代硫酸钠 20克 水 400亳升 |
直流电：0.8~1安/厘米2 阳极：不锈钢 电解+机械抛光法，时间0.5~1.5分钟 |
银及其合金的电解抛光。调节电流密度可用于银基合金的电解浸蚀 |
晶间腐蚀试验方法：在特定介质条件下检验金属材料晶间腐蚀敏感性的加速金属腐蚀试验方法，目的是了解材料的化学成分、热处理和加工工艺是否合理。其原理是采用可使金属的腐蚀电位处在恒电位阳极极化曲线特定区间的各种试验溶液，利用金属的晶粒和晶界在该电位区间腐蚀电流的明显差异加速显示晶间腐蚀。不锈钢、铝合金等的晶间腐蚀试验方法在许多国家均已标准化。产生晶间腐蚀的不锈钢，当受到应力作用时，即会沿晶界断裂、强度几乎完全消失，这是不锈钢的一种很危险的破坏形式。晶间腐蚀，是金属局部腐蚀的一种，沿着金属晶粒间的分界面向内部扩展的腐蚀。
电解抛光腐蚀参考资料
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试验材料 |
电解液配比 |
电压 |
时间 |
备注 |
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铜、铜一锌合金 |
水 100ml焦磷酸 580g |
1~2v |
10分 |
铜阴极 |
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铜和铜基合金 |
蒸馏水：500ml，磷酸（85%）250ml乙醇（95%） 250ml |
18V |
1~5分 |
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青铜 （Sn≤9%） |
水 450ml磷酸（85%） 390ml |
1.5~12V |
1~5分 |
0.1A/ cm2 |
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青铜 （Sn≤6%） |
水：330ml 硫酸 90ml磷酸（85%） 580ml |
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铝和铝一硅（＜2% 合金 |
蒸馏水：140ml，酒精（95%）800ml高氯酸（60%） 60ml |
30~40v |
15~60秒 |
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铝一合金 |
甲醇（纯） 840ml甘油（丙三醇） 125ml |
50~100v |
5~60秒 |
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铝 |
甲醇（纯）：950ml， 硝酸（1.40）15ml，高氯酸（60%）50ml |
30~60v |
15~60秒 |
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铝、银、镁 |
蒸馏水：200ml，磷酸（85%）400ml酒精（95%） 380ml |
25~30v |
4~6分 |
铝阴极 100~1100。F |
低倍加热腐蚀控制单元和酸蚀槽工作分开设计，增加控制单元工作寿命。嘉兴腐蚀性价比高
晶间腐蚀，腐蚀发生后，金属和合金的表面虽然仍保持一定的金属光泽，看不出被破坏的迹象。昆山盐酸腐蚀生产厂家
电解抛光腐蚀原理，关于电解抛光原理的争论很多，被公认的主要为薄膜理论。薄膜理论解释的电解抛光过程是:电解抛光时，靠近试样阳极表面的电解液，在试样上随着表面的凸凹不平形成了一层薄厚不均匀的黏性薄膜，这种薄膜在工件的凸起处较薄，凹处较厚，此薄膜具有很高的电阻，因凸起处薄膜薄而电阻小，电流密度高而溶解快;凹处薄膜厚而电阻大，电流密度低而溶解慢，由于溶解速度的不同，凹凸不断变化，粗糙表面逐渐被平整，然后形成光亮平滑的抛光面。电解抛光过程的关键是形成稳定的薄膜，而薄膜的稳定与抛光材料的性质、电解液的种类、抛光时的电压大小和电流密度都密切相关。根据实验得出的电压和电流的关系曲线称为电解抛光特性曲线，根据它可以决定合适的电解抛光规范。昆山盐酸腐蚀生产厂家
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