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隆鑫气体自2011年成功实现高纯六氟乙烷的进口替代之后，每年都会有新产品研发成功，2014年有6款新产品研发成功，近几年保持每年研发推出2-3种新气体的节奏，从产品突破到实现量产一般需要1-2年的时间。公司现有特种气体产品230余种，其中高纯四氟化碳、高纯六氟乙烷、光刻气、高纯二氧化碳、高纯一氧化碳、高纯氨、高纯一氧化氮等近20种产品在国内集成电路、显示面板等领域实现了进口替代，目前已经成为国内电子气体的公司。二氧化碳爆破始于二十世纪五十年代，八十年代在美国开始发展，主要是想避免因爆破产生火焰引起的事故而专门为高瓦斯矿井的采煤工作面研发的。2015年，随着科技的发展，国内二氧化碳爆破器材厂商逐步涌现（主要部件仍然依靠进口，国产故障率略高) ，但当前其成熟度不足，仍处在不断成长和发展阶段。

四氟化碳无毒、不燃。高浓度时有麻醉作用。南通***四氟化碳哪里有

在实验室内，四氟化碳可以由二氧化碳、一氧化碳或光气与四氟化硫的氟化作用来获取。商业上可由氟与二氯二氟甲烷或氯三氟甲烷的反应制备。另一个方法是用碳电极电解氟化物MF、MF2。四氟化碳，像其他氟代烃一样，是十分稳定的，这是因为C-F键很强，键能为515kJ.mol-1（参见环境影响）。因此不与酸及氢氧化物反应，但是会跟碱金属发生危险反应。热分解会产生剧毒的气体（碳酰氟、一氧化碳，如果有水存在，还会产生腐蚀性的氟化氢）。四氟化碳微溶于水（约20mg.l-1），但可与乙醇及石油醚混溶。常州***四氟化碳价格便宜四氟化碳是不燃性压缩气体。

质量指标纯度（%）≥99.99水份（PPm）≤10酸度（PPm）≤0.3蒸发残留物（PPm）≤100％物理性质分子量88.0沸点（1atm），℃-128临界温度，℃-45.67临界压力，kPa3740饱和蒸气压（25℃），kPa3650（-45.6℃）汽化热/蒸发潜热（沸点下，1atm），kJ/kg-破坏臭氧潜能值（ODP）0全球变暖潜能值(GWP，100yr)5700ASHRAE安全级别A1（无毒不可燃）化学性质相对分子量88.00。在常温下，四氟化碳是无色、无臭、不燃的易压缩性气体，挥发性较高，是**稳定的有机化合物之一，不易溶于水。在900℃时，不与铜、镍、钨、钼反应，*在碳弧温度下缓慢分解，微溶于水，在25℃及0.1Mpa下其溶解度为0.0015%（重量比），然而与可燃性气体燃烧时，会分解产生有毒氟化物。

四氟化碳是目前微电子工业中用量比较大的等离子体蚀刻气体，广用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、低温制冷、气体绝缘、泄漏检测剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂、润滑剂及制动液等方面也有大量应用。由于化学稳定性极强，CF4还可用于金属冶炼和塑料行业等。当今超大规模集成电路所用电子气体的特点和发展趋势是超纯、超净、多品种、多规格，各国为推动本国微电子工业发展，越来越重视发展特种电子气体的生产技术。就目前而言，CF4以其相对低廉的价格长期占据着蚀刻气体场，因此具有广阔的发展潜力。四氟化碳，又称为四氟甲烷。

    在常温常压下四氟化碳为无色无臭有轻微醚味的气体，在空气中不燃烧，具有可压缩性，挥发性较高，是一种比较稳定的无毒有机化合物。但是在高温时，或与可燃气体一同燃烧时，会分解出有毒的氟化物。对于硅和二氧化硅体系，采用CF4-O2反应离子刻蚀时，通过调节两种气体的比例，可以获得45：1的选择性，这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。由于化学稳定性极强，四氟化碳还可以用于金属冶炼和塑料行业等。 四氟化碳是不燃烧的无色、无味的压缩气体，充装于四氟化碳钢瓶中，饱和蒸汽压约压力2000 psig。华东正规四氟化碳价格走势

四氟化碳在空气中不燃烧，是比较稳定的无毒物质。南通***四氟化碳哪里有

四氟化碳，又称为四氟甲烷。它既可以被视为一种卤代烃、卤代甲烷、全氟化碳，也可以被视为一种无机化合物。所以在电子行业中制作线路板蚀刻过程中，需要使用四氟化碳。在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。在蚀刻过程中，用四氟化碳将多余的铜皮腐蚀掉，附有油墨的电路上铜皮得以保留，之后再用四氟化碳进行清洗电路上的油墨再烘干，等工艺。 由于化学稳定性极强，CF4还可以用于金属冶炼和塑料行业等。 南通***四氟化碳哪里有

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