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四氟化碳是一种造成温室效应的气体。它非常稳定,可以长时间停留在大气层中,是一种非常强大的温室气体。它在大气中的寿命约为50,000年,全球增温(全球暖化)系数是6,500(二氧化碳的系数是1)。虽然结构与氟氯烃相似,但四氟化碳不会破坏臭氧层。这是因为导致臭氧层破坏的是氟氯烃中的氯原子,它被紫外线辐射击中时会分离。碳-氟键比较强,因此分离的可能性比较低。吸入四氟化碳的后果与浓度有关,包括头疼、恶心、头昏眼花及心血管系统的破坏(主要是心脏)。长时间接触会导致严重的心脏破坏。四氟化碳的密度比较高,可以塡满地面空间范围,在不通风的地方会导致窒息。温度较低时,四氟化碳与二氧化碳不发生作用。安全四氟化碳价格便宜
开放的深入,使中国气体行业得以借助他国优势,弥补在技术和设备上的空白。然而,这也为中国特气行业的发展埋下了隐患。这一时期,中国半导体行业引进的大多为技术含量低的封测工序,在供应链中处于劣势状态,直接影响到上游特种气体的生产和供应水平。同时,由于下游半导体产业的发展原动力完全依赖政策投入,重视短期成果和效益,缺少长远观念,这种饮鸩止渴的思维一直蔓延到特气领域。靠与外国企业合作,就能收获不错的效益,加之技术上的差距又十分悬殊,很少有企业静下心来搞研发。相反,前沿的国外气体公司为了保持地位,每年在研发上投入巨额资金。以1995年为例,各主要气体公司研发投入为6100万美元,为1.446亿美元,这一支出在净利润中的占比达36.75%。值得一提的是,当年,英国BOC加工设备公司还设计开发了一种现场用的组装式制氮装备,特别适用于电子、金属等领域的生产。
安全四氟化碳价格便宜用硅胶除去气体中的水分,经精馏而得成品。
四氟化碳的用途有哪些?四氟化碳是不燃烧的无色、无味的压缩气体,充装于四氟化碳钢瓶中,饱和蒸汽压约压力2000psig。四氟化碳是目前微电子工业中用量比较大的等离子蚀刻气体,可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅,磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗,太阳能电池的生产,激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态,印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。由于四氟化碳的化学稳定性,四氟化碳可用于金属冶炼,例如:铜、不锈钢,碳钢、铝、蒙乃尔等;还可用于塑料行业;如:合成橡胶、氯丁橡胶、聚氨基甲酸乙酯。
四氟化碳(CF4)是目前微电子工业中用量比较大的等离子体蚀刻气体,广用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、低温制冷、气体绝缘、泄漏检测剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂、润滑剂及制动液等方面也有大量应用。由于它的化学稳定性极强,CF4还可用于金属冶炼和塑料行业等。当今超大规模集成电路所用电子气体的特点和发展趋势是超纯、超净、多品种、多规模,各国为推动本国微电子工业的发展,越来越重视发展特种电子气体的生产技术。就目前而言,CF4以其相对低廉的价格长期占据着蚀刻气体的市场,因此具有广阔的发展潜力。 四氟化碳是现阶段电子光学制造业中使用量较大的低温等离子蚀刻工艺汽体。
随着半导体等现代行业的快速发展,四氟化碳由于其稳定的化学性质而被广泛应用,由于能够强烈的吸收红外辐射和极高的稳定性,使得四氟化碳成为一种全球变暖潜力值和生命周期极高的温室气体。具有低能耗和高效率的等离子体处理法被广泛应用于四氟化碳分解中,表面波等离子体的大面积、无极放电、放电容器形状多样等优点使其成为处理四氟化碳的良好方法。设计了一套大面积表面波等离子体反应器,在低气压下激发等离子体用于处理四氟化碳,考察了微波功率、气体流量、氧气比例等影响因素对分解率的影响。四氟化碳不与铜、镍、钨、钼反应。节能四氟化碳质量代理商
性状:无色无味气体 2.熔点(℃):-183.6 3.沸点(℃):-127.8。安全四氟化碳价格便宜
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