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为维持仪器的原有精度和延长仪器的使用寿命，保证测量工作的顺利进行，故对仪器必须细心的保养和使用。1.仪器使用和安放地点须避免灰尘、潮湿、过冷、过热及酸碱性的气体。2.仪器使用环境要求：室内温度15-25，湿度45%-85%。3．平时仪器不用时，应有保护罩盖住，并放置干燥剂。4．透镜表面若有灰尘，应先用软毛笔拭去，方可进行拭擦。5．透镜的拭擦采用脱脂的棉花、纱布或透镜纸，透镜表面若有油渍时，可用脱指棉沾以少许酒精和.混合液（或二甲苯）轻轻擦拭。6．仪器立柱及未涂漆的其它外表面，要涂以薄层润滑油脂，对机械部分所附油脂，因日久硬化或灰尘积累，必须清洗，然后再擦上少许润滑油脂。7．仪器出厂前皆经过慎重校验，为了保持原有精度，除允许移动的部分外，其余部分如必须拆卸修理，应送有关修理部门或专责人员指导下方可进行。七、9j光切法显微镜的成套性：仪器的成套性见表3表3序号名称单位数量备注1主机台12测微目镜只13坐标工作台件14v型块件15（连盒）件167x物镜只1714x物镜只1830x物镜只1960x物镜只110可调变压器（220v/6-4v、5w）件111适配镜件1选购12数码相机只1选购（镜头接口与适配镜相配）13灯泡（6v、）只3备用本产品的类型是光学仪器。茂鑫显微镜的光学仪器设备研发,放心的销售,多年的生产经验。宁波全新显微镜公司
这就是观察到横向力和对应形貌图像中峰谷移动的原因。同时，所观察到的摩擦力变化是由样品与LFM针尖间内在横向力变化引起的，而不一定是原子尺度粘附-滑移过程造成的。对HOPG在微米尺度上进行研究也观察到摩擦力变化，它们是由于解离过程中结构发生变化引起的。解离的石墨表面虽然原子级平坦，但也存在线形区域，该区域摩擦系数要高近一个数量级。TEM结果显示这些线形区域包括有不同取向和无定形碳的石墨面。另一关于原子尺度表面摩擦力特征研究的重要实例是云母表面。利用LFM系统研究了氮化硅针尖与云母表面间的摩擦行为，考察了摩擦力与应力、针尖几何形状、云母表面晶格取向和湿度等因素之间的对应关系。云母表面微观摩擦系数与扫描方向、扫描速度、样品面积、针尖半径、针尖具体结构以及高于70%的湿度变化无关。然而，针尖大小和结构以及湿度又会影响云母样品表面摩擦力的.值大小。此外，应力较低时，摩擦力与应力之间有非线性关系，这是由于弹性形变引起了接触面积变化。利用LFM对边界润滑效应的研究已有报道。LB膜技术沉积的花生酸镉单层与硅基底相比，摩擦力.下降了1/10，而且很容易观察到膜上的缺点。具有双层膜高度的小岛被整片移走。南京多功能显微镜哪个牌子好透射显微镜,纳米制程,镀层等显微结构高质量观察!
东西南北）完全一致每次手术者调整完显微镜后，再调整助手镜的位置，不要在手术者调整显微镜时调整助手镜每次调整助手镜的位置之后都要再次调整助手镜的图像方向保持适当的显微镜工作距离（目镜前端至术野的距离），尽量在显微镜可用工作距离的中间段距离内手术距离太近手术器械容易触碰显微镜前端，造成污染或妨碍操作距离太远则增加手术疲劳中间段距离手术显微镜的成像比较好检查录像系统的图像曝光是否合适对于采用外置接口连接的摄像装置，可通过调整外置接口上的光圈来调节曝光在不影响正常曝光的前提下尽量将摄像接口的光圈调小，以增大图像景深也可通过调整摄像头的曝光速度等调节曝光（需要有一定摄影知识，并阅读摄像头使用说明书）还可通过调整显微镜的光源亮度来调节曝光对于内置于镜身内的内置式摄像头，一般只能通过调整显微镜光源亮度来调整摄像曝光也可通过调整摄像头的曝光时间等调整曝光如果你具备较深厚的摄影摄像知识，将摄像头完全调整至手动曝光。
这有可能降低形貌和力调制图像的质量。新发展的力调制系统包含一个额外的压电调制控制器来分别**调制针尖位置，减少了扫描器共振的乱真激发。结合先进erleave扫描技术，力调制技术对样品刚性的鉴别具有相当高的灵敏度，并且减少了调制和形貌中假象存在的可能性。使用力调制技术在那些形貌特征差别不明显的表面上，进行表面相对弹性的观察研究是很有意义的。已有人将力调制技术应用到聚环氧乙烷和聚苯乙烯膜的定域弹性测量，以及对它们的嵌段膜组分进行分析的研究。力调制技术在聚合物、半导体、材料组成和其他领域有着很大的应用前景。5．4．2相位成像技术相位成像（phaseimaging）技术的发展极大地促进了原子力显微镜（AFM）轻敲模式的应用。可提供其他SFM技术所不能揭示的，关于表面纳米尺度的结构信息。它是通过轻敲模式扫描过程中振动微悬臂的相位变化来检测表面组分、粘附性、摩擦、粘弹性和其他性质变化的。对于识别表面污染物、复合材料中的不同组分以及表面粘性或硬度不同的区域是非常有效的。同原子力显微镜（AFM）轻敲模式成像技术一样快速、简便，并具有可对柔软、粘附、易损伤或松散结合样品进行成像的优点。轻敲模式原子力显微镜（AFM）中。茂鑫立体显微镜厂家欢迎广大新老客户来电恰谈。
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