浙江高效硅异质结电池

质结电池TCO薄膜的方法主要有两种：RPD（特指空心阴极离子镀)和PVD(特指磁控溅射镀膜)；l该工艺主要是在电池正背面上沉积一层透明导电膜层，通过该层薄膜实现导电、减反射、保护非晶硅薄膜的作用，同时可以有效地增加载流子的收集；l目前常用于HJT电池TCO薄膜为In2O3系列，如ITO（锡掺杂In2O3，@PVD溅射法）、IWO（钨掺杂In2O3，@RPD方法沉积）等。HJT电池具备光电转化效率提升潜力高、更大的降成本空间。零界高效异质结电池整线解决方案，实现设备国产化，高效高产PVD DD CVD。在全球范围内，光伏异质结技术正在逐渐取代传统的硅基太阳能电池，成为主流的太阳能转换技术。浙江高效硅异质结电池

光伏异质结是一种利用半导体材料的光电效应将光能转化为电能的技术。其原理是基于半导体材料的能带结构和PN结的特性。半导体材料的能带结构是指在晶体中，电子的能量分布情况。在半导体中，有一个价带和一个导带，两者之间存在一个能隙。当光子能量大于等于这个能隙时，光子就可以激发价带中的电子跃迁到导带中，形成自由电子和空穴。这个过程就是光电效应。PN结是由P型半导体和N型半导体组成的结构。在PN结中，P型半导体中的空穴和N型半导体中的自由电子会在结界面处发生复合，形成电子-空穴对。这个过程会产生电势差，形成电场，使得电子和空穴在结界面处被分离，形成电势差。光伏异质结就是将半导体材料的能带结构和PN结的特性结合起来，形成一个异质结。在光伏异质结中，P型半导体和N型半导体的结界面处形成了一个电势差，使得光子激发的电子和空穴被分离，形成电势差。这个电势差可以被收集，形成电流，从而将光能转化为电能。总之，光伏异质结的原理是基于半导体材料的能带结构和PN结的特性，利用光子激发电子和空穴的光电效应，形成电势差，将光能转化为电能。广东新型异质结PECVD异质结电池主工艺有4道：制绒、非晶硅沉积、TCO沉积、金属化。

异质结硅太阳能电池的工艺要求与同质结晶体硅太阳能电池相比，有几个优点：与同质结形成相比，异质结形成期间的热预算减少。a-Si:H层和TCO前接触的沉积温度通常低于250℃。与传统的晶体硅太阳能电池相比，异质结的形成和沉积接触层所需的时间也更短。由于异质结硅太阳能电池的低加工温度及其对称结构，晶圆弯曲被抑制。外延生长：在晶体硅和a-Si:H钝化层之间没有尖锐的界面，而外延生长的结果是混合相的界面区域，界面缺陷态的密度增加。在a-Si:H的沉积过程中，外延生长导致异质结太阳能电池的性能恶化，特别是影响了Voc。事实证明，在a-Si:H的沉积过程中，高沉积温度（>140℃）会导致外延生长。其他沉积条件，如功率和衬底表面的性质，也对外延生长有影响，通过使用a-SiO:H合金而不是a-Si:H，可以有效抑制外延生长。HJT的清洗特点:在制绒和清洗之后的圆滑处理导致了表面均匀性的改善，减少了微观粗糙度，并提高了整个装置的性能。此外，氢气后处理被发现有利于提高a-Si:H薄膜的质量和表面钝化。CVD对比：HWCVD比PECVD有几个优点。例如，硅烷的热解避免了表面的离子轰击，而且产生的原子氢可以使表面钝化。

异高效质结电池HJT是HeterojunctionTechnology的缩写，是一种N型单晶双面电池，具有工艺简单、发电量高、度电成本低的优势。异质结太阳能电池使用晶体硅片进行载流子传输和吸收，并使用非晶/或微晶薄硅层进行钝化和结的形成。顶部电极由透明导电氧化物（TCO）层和金属网格组成。异质结硅太阳能电池已经吸引了很多人的注意，因为它们可以达到很高的转换效率，可达26.3%，由隆基团队对HJT极限效率进行更新为28.5%，同时使用低温度加工，通常整个过程低于200℃。低加工温度允许处理厚度小于100微米的硅晶圆，同时保持高产量。光伏异质结的结构简单，由非晶硅层和晶体硅层组成，具有制造工艺简单、快速和低成本的优势。

高效异质结电池整线装备，物理的气相沉积，PVD优点沉积速度快、基材温升低；所获得的薄膜纯度高、致密性好、成膜均匀性好；溅射工艺可重复性好，精确控制厚度；膜层粒子的散射能力强，绕镀性好；不同的金属、合金、氧化物能够进行混合，同时溅射于基材上；缺点：常规平面磁控溅射技术靶材利用率不高，一般低于40％；在辉光放电中进行，金属离化率较低。反应等离子体沉，RPD优点：对衬底的轰击损伤小；镀层附着性能好，膜层不易脱落；源材料利用率高，沉积速率高；易于化合物膜层的形成，增加活性；镀膜所使用的基体材料和膜材范围广。缺点：薄膜中的缺陷密度较高，薄膜与基片的过渡区较宽，应用中受到限制（特别是电子器件和IC）；薄膜中含有气体量较高。中国在光伏异质结技术的研发和应用方面处于优势地位，拥有众多出名企业和研究机构。北京太阳能异质结镀膜设备

零界高效异质结电池整线解决方案叠加了双面微晶、无银或低银金属化工艺。浙江高效硅异质结电池

高效异质结电池生产流程中使用的设备，PECVD 1.等离子化学气相沉积（PlasmaEnhancedCVD，PECVD）是指利用辉光放电的物理作用来化学气相沉积反应的CVD技术；2.异质结非晶硅薄膜沉积是采用RPECVD技术，射频等离子体增强化学气相沉积（RFPlasma-EnhancedChemicalVaporDeposition,RPECVD），是PECVD的另外一种技术。它是利用射频能量使反应气体等离子化。优点：低温成膜（300-350℃），对基片影响小，避免了高温带来的膜层晶粒粗大；l低压下形成薄膜厚度及成分较均匀、膜层致密、内应力小，不易产生裂纹；l扩大CVD应用范围，特别是在不同基片上制备金属薄膜、非晶态无机薄膜等，薄膜的附着力大于普通CVD。浙江高效硅异质结电池