西安硅片湿法设备Perc工艺

电池湿法设备Topcon工艺RCA槽式清洗设备主要功能去除多晶硅沉积的正面(LPCVD)PECVD绕镀层，去除表面剩余的BSG。优势：闭环运动控制系统，保证输送机构运动平稳性。l抛光槽：上表面采用水膜保护及辊轮带液方式，完整的保护正面的同时，对背面作抛光处理。l烘干槽：采用高压风机+高效过滤器的方式，l进口PLC控制，稳步提升设备的产能。l采用机械臂慢提方式，设备满足干湿分离，匹配高效电池发展趋势l工艺槽采用经典的内外槽的循环模式，能快速有效的将新添加药水以及添加剂充分搅拌均匀，槽内控温精度误差＜±1℃l引进半导体清洗工艺，保证硅片表面的洁净度。电池湿法设备采用先进的制备技术，为高性能电池的制造提供稳定且高效的生产流程。西安硅片湿法设备Perc工艺

电池湿法去PSG设备主要是对太阳能电池用硅片进行清洗处理，2022年成功研发双六道大产能去PSG清洗设备，并实现量产，结构稳定性、产能、安全性升级。去PSG工艺首先将绕扩层PSG进行去除，利用背面PSG保护，在槽式清洗中完成去绕度工艺。为寻求更为稳定的硅片传输，整机设计为双五道/双六道分布结构，料台归正宽度可调，兼容更多规格的硅片，并为后续18X硅片更大产能改造提供了预留窗口；去PSG设备布局前后通透，给设备使用者提供了便捷性；上料台搭配了大流量全新滴液泵；成都半导体湿法清洗设备电池湿法设备的生产过程中，需要使用一些特殊的材料和化学试剂，需要注意安全。

湿法是一种化学反应过程，其中反应介质通常是液态。这些液体可以是水、有机溶剂或酸性/碱性溶液。湿法反应通常用于制备化学品、金属提取和其他化学反应。在湿法反应中，反应介质的选择取决于反应的性质和所需的产物。例如，水是一种常见的反应介质，因为它是一种普遍的溶剂，可以溶解许多化学物质。水还可以用作酸碱反应的介质，因为它可以作为质子或氢离子的来源。有机溶剂也是常见的反应介质，因为它们可以溶解许多有机化合物。有机溶剂还可以用于制备有机化合物，例如醇、酮和醛等。酸性/碱性溶液也是常见的反应介质，因为它们可以用于酸碱反应和中和反应。例如，硫酸可以用作酸性介质，用于制备硫酸盐和其他化学品。氢氧化钠可以用作碱性介质，用于制备氢氧化物和其他化学品。总之，反应介质的选择取决于反应的性质和所需的产物。在湿法反应中，反应介质通常是液态，可以是水、有机溶剂或酸性/碱性溶液。

光伏湿法工艺设备的优化设计和精确控制对于光伏产业的发展具有重要意义。首先，优化设计可以提高设备的效率和稳定性，降低生产成本，提高产品质量和产量。其次，精确控制可以保证生产过程的稳定性和一致性，减少生产过程中的误差和损失，提高生产效率和产品质量。此外，光伏湿法工艺设备的优化设计和精确控制还可以提高光伏产业的竞争力，促进光伏产业的可持续发展。因此，对于光伏湿法工艺设备的优化设计和精确控制，应该给予足够的重视和投入。电池湿法背抛清洗设备（Topcon工艺）链式去BSG+槽式碱抛设备，设备产能大，稳定性好。

电池湿法设备是一种用于电池制造的设备，主要用于电池的电解液制备和电极涂覆等工序。使用电池湿法设备需要注意以下几点：1.设备安装：首先需要将设备安装在干燥、通风、无尘的环境中，确保设备的稳定性和安全性。2.操作流程：根据设备的操作手册，按照操作流程进行操作，确保每个步骤的正确性和顺序。3.原材料准备：根据设备的要求，准备好所需的原材料，包括电解液、电极材料等。4.设备调试：在使用设备前，需要进行设备的调试，确保设备的正常运转和参数的准确性。5.操作注意事项：在操作过程中，需要注意安全，避免发生意外事故。同时，需要注意设备的维护和保养，定期清洁设备，检查设备的运转情况。总之，使用电池湿法设备需要严格按照操作手册进行操作，确保设备的正常运转和产品的质量。同时，需要注意安全和设备的维护保养，以延长设备的使用寿命。电池湿法制绒设备（Perc 工艺）使用强碱腐蚀晶体硅表面形成规则金字塔状绒面，增加硅片对太阳光的吸收。安徽自动化湿法工艺

湿法刻蚀设备（Perc 工艺）抛光槽：上表面采用水膜保护及辊轮带液方式，完整的保护正面的同时。西安硅片湿法设备Perc工艺

电池湿法设备XBC工艺背抛清洗设备，功能l硅片抛光处理。优势：进口PLC控制，稳步提升设备的产能。l慢提拉采用机械臂慢提方式，设备满足干湿分离，匹配高效电池发展趋势。l可配套无金属化制程设备，提高设备洁净度。l工艺槽采用经典的内外槽的循环模式，能快速有效的将新添加药水以及添加剂充分搅拌均匀，槽内控温精度误差＜±1℃。l去除切割损伤层和表面脏污l使用强碱腐蚀晶体硅表面形成规则金字塔状绒面，增加硅片对太阳光的吸收，降低反射率l增加硅片表面积，进而PN结面积也相应增加。西安硅片湿法设备Perc工艺