工业清洗螯合剂双氧水稳定剂1-羟基亚乙基-1
过氧化氢，化学式H2O2。纯过氧化氢是淡蓝色的黏稠液体，可任意比例与水混溶，是一种强氧化剂，水溶液俗称双氧水，为无色透明液体。其水溶液适用于医用伤口消毒及环境消毒和食品消毒。而一般过氧化氢和过氧乙酸消毒剂，会因金属离子的存在而发生过快分解，而上海望界DEQUEST 2010可有效抑止这种分解。 Dequest产品的质量 Dequest产品已通过了s09002质量标准认证。另外,位于英国纽波特的 Dequest生产工厂通过了15014001环境管理系统标准认证和18001职业健康和安全管理体系标准( OHSAS)认证。公司也加入了欧洲共同体EMAS法规(生态管理审计方案)项目,该项目要求对环境性能进行**的审核找双氧水稳定剂-双氧水稳定剂-螯合剂就选上海望界专营水处理产品；工业清洗螯合剂双氧水稳定剂1-羟基亚乙基-1
上海望界DEQUEST系列螯合剂-双氧水稳定剂-双氧水稳定剂等。缓蚀作用 DEQUEST稳定剂系列次氯酸钠（84类）消毒剂因多种因素，在储运和使用过程中，容易过快分解，发生所谓的涨瓶现象，DEQUEST 6004可有效抑止因重金属离子而引起的过快分解。 过氧化氢和过氧乙酸消毒剂，也会因金属离子的存在而发生过快分解，DEQUEST 2010可有效抑止这种分解。 金属在水中和氧会发生反应导致腐蚀，这种现象在水系统中相当普遍，以铬酸盐为主体的防腐配方在控制腐蚀上是有效的，但随着日益增长的环保压力，铬酸盐的使用受到了限制。作为更有效的配方，膦酸盐结合锌或者磷酸盐，或者两者都结合，在抑止腐蚀上很有效，这些组分结合的效果，比任何单一的组分效果都要好。现已发现，DEQUEST 2000对需控制腐蚀为主的系统特别有成效。工业清洗螯合剂双氧水稳定剂1-羟基亚乙基-1化妆品用双氧水稳定剂-个人护理用双氧水稳定剂-望界！
DEQUEST产品包含了很多：双氧水稳定剂DEQUEST 2010，次氯酸钠双氧水稳定剂DEQUEST 6004，双氧水稳定剂DEQUEST 2000等。过氧化氢和过氧乙酸消毒剂，也会因金属离子的存在而发生过快分解，DEQUEST 2010可有效抑止这种分解。 Dequest 主要产品应用： 有机膦酸盐Phosphonates ·工业水处理IWT ·纸浆&造纸Paper&Pulp ·洗涤剂和清洗剂Detergents,I&I ·个人护理PersonalCare ·陶瓷Ceramics ·电子Electronics 甜菜基聚合物CMI ·洗涤剂和工业清洗Detergents,I&I ·二次采油Secondaryoilrecovery ·纸浆和造纸Paper&Pulp
上海望界DEQUEST系列螯合剂-双氧水稳定剂-双氧水稳定剂等。分散作用： 分散作用，使得生长中晶体和其他颗粒的聚结变得更加困难，DEQUEST能够牢牢的吸附在晶体表面，给以排斥性电荷，除了反絮凝和使固体分散的作用外，由于优越的水解稳定性，膦酸盐能够在一个相当长的时间内维持系统始终处于分散状态，这种性质，使得DEQUEST在一系列的反絮凝作用中，如TiO2, 高岭吐，钻孔泥，具有潜在的应用前景。这种分散作用使得DEQUEST在去污剂和清洗剂的配方中可以占有一席之地。双氧水稳定剂-依替膦酸TURPINAL SL-望界；
Turpinal产品可以螯合细胞膜表面的Ca离子，提高除菌剂对微生物细胞膜的渗透性，从而提高除菌剂的作用效果。拥有：优良的水解稳定性，很高的热稳定性，完全的水溶性，极强的离子螯合力 。 双氧水稳定剂-螯合剂Turpinal系列产品可应用： ·染发，烫发行业。在配方中稳定H2O2 ·个人洗护行业，如香波，沐浴露，洗面奶等。螯合钙，镁离子，稳定泡沫，提高去污能力。除菌剂增效，提高除菌剂的除菌效果。 稳定香精，延长香味停留时间 ·香皂-颜色，香味的稳定 英国进口-伊塔玛双氧水稳定剂-望界！工业清洗螯合剂双氧水稳定剂1-羟基亚乙基-1
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双氧水稳定剂-螯合剂羟基亚乙基二膦酸TURPINAL 4NL，TURPINAL SL，TURPINAL 4NP 各类化妆品因过渡金属离子的存在而发生变色、变质的问题，烫发类产品中所含有的过氧化物，由于金属离子的存在而发生过快分解，甚至在使用中导致毛发的损伤。TURPINAL系列产品可有效提升包括染发产品在内的化妆品的稳定性，使用更安全。 Turpinal 与常见螯合剂比较(如EDTA) 羧酸类螯合剂包括EDTA，在H2O2，漂白水等氧化剂存在的情况下，会被氧化，从而失去螯合能力。 Turpinal系列产品在H2O2等氧化剂中，可以稳定存在，螯合能力可以继续保持。 Turpinal和EDTA 有协同效应。 产品和配制水中总是存在不同的离子，利用它 们不同的特性，把EDTA和Turpinal产品组合在一起，可以满足不同杂质的螯合需求。 工业清洗螯合剂双氧水稳定剂1-羟基亚乙基-1
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