舟山真空泵抽湿真空烘箱定制

时间:2023年06月12日 来源:

    COB生产流程:晶粒进料→晶粒检测→清洗PCB→点胶→粘晶粒→烘烤→打线→过境→OTP烧录→封胶→测试→QC抽检→入库。其中烘烤这一环节是很重要的一步之一,烘烤的目的是将前一道的工序中的胶烘干,使得IC在PCB上粘牢,以确保下一道工序中IC在打线过程中不会移动。不同的胶需要的烘烤时间和温度也是不一样的。缺氧胶烘烤温度90度烘烤10分钟,银胶烘烤温度120度烘烤90分钟,红胶烘烤温度120度烘烤30分钟。无尘烘箱主要应用于半导体晶圆片光刻涂胶镀膜前的基片清洗后的前烘烤(Prebaking)、涂胶后的软烘焙Softbaking),曝光、显影后的坚膜硬烘(Hardbaking)等工艺,适用半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃等材料的洁净、防氧化烘烤,亦可用于LCD、TFT、COMS、生物、医药、光学镀膜、精密元件干燥等生产工艺以及研发机构。 主要适用于对热敏性物料和含有容剂及需回收溶剂物料的干燥。舟山真空泵抽湿真空烘箱定制

真空烘箱

在CCD(电荷耦合器件)制造过程中,颗粒沾污对CCD的薄膜质量、光刻图形完整性等有很大的影响,降低CCD的成品率。CCD制造过程中的颗粒来源主要有两个方面:一个制造过程中工艺环境产生的颗粒;另一个是薄膜的淀积、光刻和离子注入等CCD工艺过程中产生的颗粒。工艺环境的颗粒可来源于墙体、设施、设备、材料和人员,工艺过程的颗粒来源于易产生粉尘的工艺,比如说LPCVD淀积多晶硅和氮化硅及刻蚀工艺等。无尘烘箱,即使在普通环境下使用,能够确保烘箱内部等级达到Class 100,为CCD(电荷耦合器件)制造过程中烘烤提供洁净环境,预防颗粒沾污江苏防止氧化真空烘箱监控系统可设定温度、测定温度。

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    真空干燥箱日常使用和维护:1、产品出厂前都经过严格的测试,一般不要进行修改,如使用时的环境恶劣,环境温度超出适宜范围,会引起温度显示值与箱内实际温度误差,如超出技术指标范围的,可以参照温度控制器操作说明按所需进行修正。2、仪器在正常工作状态下,如打开箱门时间过长,关上箱门后即使箱内温度有些变动,这也是正常现象。3、除维修外,不能拆开左侧箱体盖以免损坏电器控制系统。4、放气阀橡皮塞若旋转困难,可在内涂上适量油脂润滑。5、真空泵不能长时期工作,因此真空度达到干燥物品要求时,应先封闭真空阀,再封闭真空泵电源,待真空度小于干燥物品要求时,再打开真空阀及真空泵电源,继续抽真空,这样可延长真空泵使用寿命。6、干燥的物品如湿润,则在真空箱与真空泵之间比较好加进过滤器,防止湿润气体抽进真空泵,造成真空泵故障。7、真空干燥箱经多次使用后,会产生不能抽真空的现象,此时应更换门封条或调整箱体上的门扣伸出间隔来解决。真空箱干燥温度高于200度时,有可能会产生慢漏气现象,此时拆开箱体背后盖板用内六角板手拧松加热器底座,调换密封圈或拧紧加热器底座来解决。8、真空干燥箱应经常保持清洁。箱门玻璃切忌用有反应的化学溶液擦拭。

    本实用新型的一种新型的真空烘箱,其创新点在于:包括箱体、盖板、底板、侧板、连接装置、进水管、出水管和导流管;所述箱体与所述盖板相匹配,且二者之间螺接形成一水平设置的中空长方体结构;在所述箱体的内底面还水平螺接设有底板,且在所述底板的上表面左右两端还竖直对称固定设有侧板;在两个所述侧板之间还呈矩阵依次间隔设有数个导流管,每一所述导流管均为水平设置的中空圆柱体结构,且其两端分别水平延伸出两个所述侧板;上下相邻两个所述导流管的两端之间分别错位通过连接装置密封连接,并形成数个竖直设置的蜿蜒状结构;在上面一层所述导流管的上方还水平间隔设有数个进水管,每一所述进水管均为中空的l形圆管结构,且其短边一端均竖直向上延伸出所述盖板,每一所述进水管的长边一端均依次水平延伸出两个所述侧板,并分别通过连接装置与上面一层对应位置所述导流管的一端密封连接;在下面一层所述导流管的下方还水平间隔设有数个出水管,每一所述出水管均为中空的l形圆管结构,且其短边一端均竖直向下延伸出所述箱体,每一所述出水管的长边一端均依次水平延伸出两个所述侧板,并分别通过连接装置与下面一层对应位置所述导流管的一端密封连接。尽量控制真空泵的流量和扬程在标牌上注明的范围内。

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橡胶配方中硫化体系的类型按照制品不同性能的要求,橡胶配方选用不同的硫化体系。通常,普通硫磺硫化体系,其硫化温度选取范围为130-160℃,具体需要根据所使用的促进剂的活性温度和制品的物理机械性能来确定。有效、半有效硫化体系,硫化温度一般掌握在160-165℃之间,过氧化物及树脂等非硫磺硫化体系,硫化温度适合选择170-180℃.3.橡胶制品的结构橡胶属于热的不良导体,受热升温较慢。对于夹织物的橡胶制品,通常硫化温度不高于140℃.而发泡橡胶,需要按照发泡剂和发泡助剂的分解温度选择适宜的硫化温度。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体,一目了然。江苏防止氧化真空烘箱监控系统

加热方式有:蒸汽、热水、导热油、电热。舟山真空泵抽湿真空烘箱定制

    为获得平坦而均匀的光刻胶涂层并使光刻胶与晶片之间有良好的黏附性,通常在涂胶前对晶片进行预处理。预处理第一步常是脱水烘烤,在真空或干燥氮气的机台中,以150~200℃烘烤。工艺目的是除去晶片表面吸附的水分,在此温度下,晶片表面大约保留了一个单分子层的水。涂胶后,晶片须经过一次烘烤,称之软烘或前烘。工艺作用是除去胶中大部分溶剂并使胶的曝光特性固定。通常,软烘时间越短或温度越低会使得胶在显影剂中的溶解速率增加且感光度更高,但对比度会有降低。实际上软烘工艺需要通过优化对比度而保持可接受感光度的试凑法用实验确定,典型的软烘温度是90~100℃,时间从用热板的30秒到用烘箱的30分钟。在晶片显影后,为了后面的高能工艺,如离子注入和等离子体刻蚀,也须对晶片进行高温烘烤,称之后烘或硬烘。这一工艺目的在于:减少驻波效应;激发化学增强光刻胶PAG产生的酸与光刻胶上的保护基团发生反应并移除基团使之能溶解于显影液。 舟山真空泵抽湿真空烘箱定制

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