上海真空烘箱安全警报

    充氮洁净烘箱是一种新型可造就洁净的恒温环境的电热干燥箱，可满足电子、医疗卫生仪器、仪表，工厂，高等院校、科研部门等有关单位作净化烘箱的需要。充氮洁净烘箱采用不锈钢工作室，不锈钢管作加热，内胆周身做密闭氩弧焊接，保证箱体内部洁净度高，箱内充以氮气等惰性气体有效防止产品氧化，有助于保证产品质量!充氮洁净烘箱采用精确的控温系统-数显温控系统。安装在箱体的顶部。其特点具有读数清晰、调节方便、控温精度高、结构简单、安全可靠之优点。充氮洁净烘箱采用水平送风强鼓风循环系统，特殊风道设计，使箱内温度均匀，确保了温度的稳定性。充氮洁净烘箱拥有完善的安全保护措施，超温报警、欠相缺相保护、过电流保护、快速熔断器、接地保护等系统，该功能充分保护实验人员的安全！ 双层钢化玻璃观察窗，工作状态一目了然。上海真空烘箱安全警报

    塑料制品的热处理是指将成型制品在一定温度下停留一段时间而消除内应力的方法。热处理是消除塑料制品内取向应力的比较好方法。对制件进行热处理，可以使高聚物分子由不平衡构象向平衡构象转变，使强迫冻结的处于稳定的高弹形变获得能量而进行热松弛，从而降低或基本消除内应力。常采用的热处理温高于制件使用温度10~20℃或低于热变形温度5~10℃。热处理时间取决于塑料种类、制厚度、热处理温度和注塑条件。一般厚度的制件，热处理1~2小时即可，随着制件厚度增热处理时间应适当延长。提高热处理温度和延长热处理时间具有相似的效果，但温度的效更明显些。热处理方法：1）是将制件放入水、甘油、矿物油、乙二醇和液体石蜡等液体介质中，2）放入空气循环烘箱中加热到指定温度，并在该温度下停留一定时间，然后缓慢冷却到室温。实验表明，脱模后的制件立即进行热处理，对降低内应力、改善制件性能的效果更明显。此外，提高模具温度，延长制件在模内冷却时间，脱模后进行保温处理都有类似热处理的作用。 宁波双层钢化玻璃观察窗真空烘箱调试调整将真空泵与真空阀连接，开启真空阀，抽真空；

    橡胶的种类随着室温硫化胶料的增加和高温硫化的出现，硫化温度趋向两个极端。从提高硫化效率来说，应当认为硫化温度越高越好，但实际上不能无限提高硫化温度。橡胶为高分子聚合物，高温会使橡胶分子链产生裂解反应，导致交联键断裂，即出现“硫化返原”现象，从而使硫化胶的物理机械性能下降。综合考虑各橡胶的耐热性和“硫化返原”现象，各种橡胶建议的硫化温度如下：NR比较好在140-150℃，比较高不超过160℃；顺丁橡胶、异戊橡胶和氯丁橡胶比较好在150-160℃，比较高不超过170℃丁苯橡胶、丁腈橡胶可采用150℃以上，但比较高不超过190℃；丁基橡胶、三元乙丙橡胶一般选用160-180℃，比较高不超过200℃；硅橡胶、氟橡胶一般采用二段加硫，一段温度可选170-180℃，二段硫化则选用200-230℃，按工艺要求可在4-24h范围内选择。

维护保养：13、尽量控制真空泵的流量和扬程在标牌上注明的范围内，以保证真空泵在高效率点运转，才能获得大的节能效果。14、真空泵在运行过程中，轴承温度不能超过环境温度35C，高温度不得超过80C。15、如发现真空泵有异常声音应立即停车检查原因。16、真空泵要停止使用时，先关闭闸阀、压力表，然后停止电机。17、真空泵在工作一个月内，经100小时更换润滑油，以后每个500小时，换油一次。18、经常调整填料压盖，保证填料室内的滴漏情况正常（以成滴漏出为宜）。19、定期检查轴套的磨损情况，磨损较大后应及时更换。20、真空泵在寒冬季节使用时，停车后，需将泵体下部放水螺塞拧开将介质放净。防止冻裂。21、真空泵长期停用，需将泵全部拆开，擦干水分，将转动部位及结合处涂以油脂装好，妥善保管。工作室采用不锈钢板(或拉丝板)制成，确保产品经久耐用。

真空烘箱可供科研、院校、工矿、化工等单位实验室以及生产现场，在真空状态下对物品进行干燥和热处理等。设备利用真空泵进行抽湿。使工作室内形成真空状态有效降低水分沸点温度。加快干燥速度、避免物品加热过程中导致氧化和损坏，避免尘埃破坏。

工作室采用质量不锈钢板。钢化双层玻璃视窗，工作室内产品一目了然；箱门闭合松紧可调，整体成型硅橡密封圈，确保向内高真空度；微电脑智能控温仪，设定、测定温度；双数字显示和PID自整定功能，控温精确；加热功率比例可任意调节；真空泵采用内置泵体，噪音小易维护。 主要适用于对热敏性物料和含有容剂及需回收溶剂物料的干燥。上海真空烘箱安全警报

本干燥器属于静态真空干燥器，故干燥物料的形成不会损坏。上海真空烘箱安全警报

    为获得平坦而均匀的光刻胶涂层并使光刻胶与晶片之间有良好的黏附性，通常在涂胶前对晶片进行预处理。预处理第一步常是脱水烘烤，在真空或干燥氮气的机台中，以150～200℃烘烤。工艺目的是除去晶片表面吸附的水分，在此温度下，晶片表面大约保留了一个单分子层的水。涂胶后，晶片须经过一次烘烤，称之软烘或前烘。工艺作用是除去胶中大部分溶剂并使胶的曝光特性固定。通常，软烘时间越短或温度越低会使得胶在显影剂中的溶解速率增加且感光度更高，但对比度会有降低。实际上软烘工艺需要通过优化对比度而保持可接受感光度的试凑法用实验确定，典型的软烘温度是90～100℃，时间从用热板的30秒到用烘箱的30分钟。在晶片显影后，为了后面的高能工艺，如离子注入和等离子体刻蚀，也须对晶片进行高温烘烤，称之后烘或硬烘。这一工艺目的在于：减少驻波效应；激发化学增强光刻胶PAG产生的酸与光刻胶上的保护基团发生反应并移除基团使之能溶解于显影液。 上海真空烘箱安全警报