北京蒸发真空镀膜设备

蒸镀机的操作步骤：1.将要蒸发的基底材料洗干净放在蒸发头下面的基板上。2.将要蒸发的金属用镊子团成球形放入钨篮中。3.将蒸发头装在仪器盖上，插好电线，打开仪器电源开关。将氮气钢瓶的开关旋开，使流量控制在0.035Mpa左右。4.按“ENTER”按钮设置仪器参数。如果选择“SinglePulse”模式，其余参数不需要设置，值设置除气时间，在0～60秒内调节。5.然后按“START”键仪器开始抽真空。6.等仪器进入泵保持状态，真空度达到9×10-5mbar是，可进行下一步操作。由于铝比较容易氧化，蒸铝时至少要在泵保持进行30分钟之后才能进行下一步操作。7.按“START”键。8.按“△”键仪器开始除气。主要除去要蒸发的金属材料表面的一些污垢等。操作时要小心的向右旋下面的黑色按钮，当“Current”显示为8是就要通知旋动，稍等片刻钨篮就会发红，开始除气。除气持续10秒左右然后就将旋钮向左旋到底。9.然后按“▽”键仪器进入蒸发状态。10.蒸镀完毕后，按“STOP”键，停止抽真空，然后打开盖子取出样品，关闭主机电源盒气源。真空镀膜机运用镀膜资料镀膜之前，对镀膜资料做简略的外表清洁能延伸镀膜机运用寿命。北京蒸发真空镀膜设备

真空镀膜机的维修方法介绍：长期工作的镀膜机抽真空的时间很长且达不到工作真空、恢复真空、极限真空、保真空：1、蒸发室有很多粉尘（应清冼）；2、扩散泵很久未换油（应清冼换油）；3、前级泵反压强太大机械泵真空度太低（应清冼换油）；4、各动密封胶圈损坏（更换胶圈）；5、由于蒸发室长期温度过高使其各密封胶圈老化（更换胶圈）；6、蒸发室各引入水路密封处是否有胶圈损坏（更换胶圈）；7、各引入座螺钉、螺母有无松动现象（重新压紧）；8、高低预阀是否密封可靠（注油）。北京蒸发真空镀膜设备真空镀膜机每完结200个镀膜程序以上，应清洁作业室一次。

真空镀膜机基本技术要求如下：1、真空镀膜机中的真空管道、静态密封零部件（法兰、密封圈等）的结构形式，应符合GB/T6070的规定。2、在低真空和高真空管道上及真空镀膜室上应安装真空测量规管，分别测量各部位的真空度。当发现电场对测量造成干扰时，应在测量口处安装电场屏蔽装置。3、如果设备使用的主泵为扩散泵时，应在泵的进气口一侧装设有油蒸捕集阱。4、设备的镀膜室应设有观察窗，应设有挡板装置。观察窗应能观察到沉积源的情况以及其他关键部位。5、离子镀沉积源的设计应尽可能提高镀膜过程中的离化率，提高镀膜材料的利用率，合理匹配沉积源的功率，合理布置沉积源在真空室体的位置。6、合理布置加热装置，一般加热器结构布局应使被镀工件温升均匀一致。7、工件架应与真空室体绝缘，工件架的设计应使工件膜层均匀。8、离子镀膜设备一般应具有工件负偏压和离子轰击电源，离子轰击电源应具有抑制非正常放电装置，维持稳定。

真空镀膜机怎样除尘？1、粗除尘（金属网除尘器），金属网除尘器的基本版本是钢屑过滤器，其结构比较简单，是一种结构简单的装置，将金属切削屑装入金属丝网袋中。安装在镀膜真空室的管道出口处，便于取出和推进。这种除尘器的尺寸一般为20-60厘米。其工作原理是依靠芯片的机械阻隔作用，可以起到去除灰尘中一些较大颗粒的作用，同时也有一定的冷却效果。在后来改进的金属网除尘装置中，在储油器中安装了部分泵油，这样气流中的大部分粉尘颗粒就可以在油中被去除，而没有粘附在油面上的粉尘颗粒则被金属网除去。2、精细除尘（油膜除尘器），真空镀膜机气缸内装有带孔的多层金属膜片，膜片上装有金属或陶瓷环，气缸上装有带循环油泵的喷油环喷嘴，使气流经过时灰尘能被油膜附着。不仅具有良好的除尘能力，而且具有良好的气体冷却效果。真空蒸镀工艺一般包括基片表面清洁、镀膜前的准备、蒸镀、取件、镀后处理、检测、成品等步骤。

真空镀膜机镀膜技术在工业中的应用：采用真空镀膜技术代替传统的电镀技术，不仅可以节省大量的薄膜材料，降低能源消耗，而且可以消除湿法镀膜对环境的污染。因此，国外已采用真空镀膜工艺代替电镀工艺。在冶金工业中，对钢和带钢添加渗铝保护层是很常见的。在机械制造中，真空镀膜技术改变了一定的加工工艺，节省了宝贵的原材料，如飞机涡轮发动机叶片没有昂贵的高温金属制造，而是使用廉价的材料，成型后再采用真空镀膜的方法在叶片表面涂上耐高温、耐腐蚀的保护层。例如，在汽车制造行业，使用塑料制品的金属化零件代替各种金属零件，这样不仅减轻了汽车的重量，而且节省了燃料的消耗。在金属刀具上添加TiN硬膜可使刀具寿命提高3~6倍，从而节省大量高速钢。塑料薄膜采用真空镀膜和镀铝等金属薄膜的方法，然后染色，可用于工业装饰薄膜。检查真空镀膜机电路各控制开关能否正常断开闭合，电压指示380±20V。北京蒸发真空镀膜设备

真空蒸镀装置由真空抽气系统和蒸发室组成。北京蒸发真空镀膜设备

真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，真空镀膜有很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。应用较多的是蒸发和溅射两种。蒸发镀膜和磁探溅射镀膜的特点如下：一、对于蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。1、厚度均匀性主要取决于：A.基片材料与靶材的晶格匹配程度；B.基片表面温度；C.蒸发功率、速率；D.真空度；E.镀膜时间、厚度大小。2、组分均匀性：蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。北京蒸发真空镀膜设备

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