天津蒸镀机

真空镀膜机的操作注意事项：1、真空镀膜机操作员要穿着整洁，袖口扣紧（佩戴袖套），上衣下摆不能敞开，不得穿拖鞋、高跟鞋；2、检查电路各控制开关能否正常断开闭合，电压指示380±20V；3、检查各螺钉处连接是否牢固，电控柜、主机的连接线有无松脱现象、接地是否良好；所有电器的开关在零或者“关”的位置上；4、检查镀膜机室内不锈钢挡板的插销是否牢固，角部有无弯曲翘曲等变形情况；5、检查水压、气压是否正常；水、油、气是否有漏滴现象；6、设备中途停水时，应立即关闭扩散泵、粗抽泵、罗茨泵，让维持泵继续运行；7、设备中途停气时，应立即关闭扩散泵、粗抽泵、罗茨泵，让维持泵继续运行。真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜。天津蒸镀机

真空镀膜机工作环境要求：真空镀膜设备应在真空条件下工作，因此设备应满足真空对环境的要求。真空对环境的要求一般包括真空设备对实验室（或车间）温度、空气和其他周围环境中颗粒物的要求，以及对真空或真空中零件或表面的要求。这两个方面密切相关。周围环境直接影响真空设备的正常使用；真空室或安装在真空设备中的零件是否清洁直接影响设备的性能。如果空气中含有大量水蒸气和灰尘，则在不清洁真空室的情况下，使用油封机械泵泵送很难达到预期的真空度。众所周知，油封机械泵不应泵出含有对金属有腐蚀性且对真空油有反应的颗粒粉尘的气体。水蒸气是一种可冷凝的气体。当泵出大量可凝气体时，对泵油的污染将更加严重。因此，泵的极限真空将降低，泵的泵送性能将受损。LED蒸镀机经销商注意真空镀膜机本身及设备运行中的安全，特别要重视安全装置的检查与使用。

为什么真空镀膜设备要配套冷水机？冷却配套冷水机的作用是维持真空镀膜设备的温度，使其工作到高精度、高效率控制温度的目的。以前在没冷水机的情况下，自然水和水塔散热都不可避免地受到自然气温的影响，而且此方式控制是不稳定的。因此，可以说冷水机是设备中很重要的配套冷却设备，因为冷水机直接关系到其工作效果的好坏。这个要从真空镀膜设备的工作原理查看：膜料在高温下蒸发落在工件表面结晶。由于空气对蒸发的膜料分子会产生阻力造成碰撞使结晶体变得粗糙无光，所以在高真空下才能使结晶体细密光亮，如果真空度不高结晶体就会失去光泽，结合力也很差。冷水机设有制冷系统和冷却水循环系统，水温在5℃～30℃范围内调节控制，可以到高精度、高效率控制温度的目的。其冷却原理是：制冷系统将水冷却，再由水泵将低温冷却水送入真空镀膜设备进行降温，冷水机冷冻水将热量带走后温度升高再回流到水箱，起到冷却的作用。

真空镀膜机成膜不均的因素有哪些？真空镀膜机抽气不均会影响镀膜均匀性，基片干净很重要。真空镀膜前要将基片表面认真清洁干净，达到工件去油、去污和脱水的目的。基板表面污染从零件在加工，运输等过程中附着的各种各样的灰尘、油脂、抛光膏、汗渍等，在潮湿环境下，基片表面易氧化，形成氧化膜吸附气体。对于这些污物，都能用去油或化学方法清洗干净。干净的基片不要直接放在外面，需要用封闭容器存放，减少沾污。镀膜室内也是会积灰的，所以要清洗镀膜室内，烘烤除气，并将机器放置在干净的环境里。注意扩散泵返油，镀膜的原材料有很多，如树脂、硅酮、硅盐酸、聚合物等，辅料、配方的比列有所不同，薄膜也不同。真空镀膜机过程的清洁度是影响真空镀膜附着力的主要指标之一。

真空蒸镀，简称蒸镀，是指在真空条件下，采用一定的加热蒸发方式蒸发镀膜材料（或称膜料）并使之气化，粒子飞至基片表面凝聚成膜的工艺方法。蒸镀是使用较早、用途较广的气相沉积技术，具有成膜方法简单、薄膜纯度和致密性高、膜结构和性能独特等优点。蒸镀的物理过程包括：沉积材料蒸发或升华为气态粒子→气态粒子快速从蒸发源向基片表面输送→气态粒子附着在基片表面形核、长大成固体薄膜→薄膜原子重构或产生化学键合。将基片放入真空室内，以电阻、电子束、激光等方法加热膜料，使膜料蒸发或升华，气化为具有一定能量（0.1～0.3eV）的粒子（原子、分子或原子团）。气态粒子以基本无碰撞的直线运动飞速传送至基片，到达基片表面的粒子一部分被反射，另一部分吸附在基片上并发生表面扩散，沉积原子之间产生二维碰撞，形成簇团，有的可能在表面短时停留后又蒸发。粒子簇团不断地与扩散粒子相碰撞，或吸附单粒子，或放出单粒子。此过程反复进行，当聚集的粒子数超过某一临界值时就变为稳定的核，再继续吸附扩散粒子而逐步长大，然后通过相邻稳定核的接触、合并，形成连续薄膜。真空蒸镀装置由真空抽气系统和蒸发室组成。合肥真空蒸镀机设备

真空镀膜机的观察窗应能观察到沉积源的情况以及其他关键部位。天津蒸镀机

蒸镀机的基本原理：（1）加热蒸发过程：包括由凝聚相转变为气相的过程，每种蒸发物质在不同的温度有不同的饱和蒸气压。（2）气态原子或分子在蒸发源与基片之间运输，即原子或分子在环境气氛中的飞行过程。（3）蒸发原子或分子在基片表面张得沉积过程。即是蒸发，凝聚，成核，核生长，形成连续的膜。由于基板温度远低于蒸发源温度，因此，气态分子在基片表面将发生直接由气态到固态的相转变过程。真空蒸发镀膜法（简称真空蒸镀）是在真空条件下，加热蒸发容器中待蒸发的材料，使其原子或分子从表面气化逸出，形成蒸汽流，入社到衬底或基底表面，凝结成固态薄膜的方法。天津蒸镀机

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