宇舟磨抛机镶嵌粉

时间:2022年12月16日 来源:

●中心压力、单点压力两种运行模式,可根据工况选择合适的方式●试样夹盘可快速装卸转换,灵活使用不同口径夹盘●磁性盘设计,支持快速换盘,垫板喷涂特氟龙,更换砂纸抛布无残留●独特磨盘自适应设计,使得试样与磨盘完美贴合修正,有效解决多面现象,保障研磨表面一致●整机采用高清LCD触摸屏操控和显示,操作简便,清晰直观●自动研磨系统,可定时定速,水系统自动启闭功能,有效代替手工磨抛●磨头电磁锁自动落锁功能,安全便捷●双盘设计,研磨与抛光可操作●直流无刷电机,使用寿命长,超静音体验●可存储十多种磨抛程序,针对不同试样,设置不同的参数●试样夹盘半转设计,配合内侧照明系统,方便取放试样●各类金相试样●日常较大体量制样任务●轻劳力需求。磁性盘设计,支持快速换盘,垫板喷涂特氟龙,更换砂纸抛布无残留。宇舟磨抛机镶嵌粉

机械制样可分两种操作:研磨和抛光A、研磨研磨的z终目的是获得极小损伤的平表面,而这些微小的损伤在随后的抛光过程中用很短的时间就可以消除掉。研磨分为粗磨和细磨两个过程。粗磨粗磨的过程是将所有样品的表面成为相似的表面,使用较为粗大的、固定的研磨颗粒可迅速地研磨掉物质。精磨精磨会使样品有些微变形,但这些变形在抛光过程中就会消除掉。B、抛光抛光如同研磨一样,也必须去掉前面工序带来的损伤。可分为金刚石抛光和氧化物抛光两个过程。金刚石抛光只有将金刚石作为研磨料进行抛光,才能以z快速度获得比较好的研磨平面。这是因为金刚石很硬,它几乎可以切任何材料和相。氧化物抛光对于特别软、韧性的样品,须采用氧化物抛光法。抛光在抛光布上完成。金刚石抛光时还须用到润滑剂。进口零件磨抛机质量湿度太大会减弱抛光的磨痕作用,使试样中硬相呈现浮凸和钢中非金属夹杂物及铸铁中石墨相产生“曳尾”现象。

三档调速:●双盘设计,研磨与抛光可duli操作●易腐蚀部位采用不锈钢●柜体储藏空间●各类金相试样MP-2B型三速金相试样磨抛机具有duli控制的双盘系统用于研磨和抛光,机身采用厚板材制成,坚固稳定、经久耐用;电机噪音低、磨盘转动平稳;采用柜式结构,可存放各类耗材、试样,使用方便;配备冷却水管,可调整旋转方向进行湿磨;使用时jin需更换砂纸及抛布,就能完成各种试样的粗磨、细磨及抛光等各道工序,是实验室的理想金相制样设备。

PG-2C金相试样抛光机:1.双盘立式设计;2.价格实惠;在金相试样制备过程中,试样的抛光是一道主要工序,经过磨光的试样,在抛光机上抛光后,可获得光亮如镜的表面。PG-2C型金相试样抛光机是一款经典产品,双盘操作,可供双人同时操作,配备抛光用供水系统和易清污的抽屉式积污匣,具有传动平稳、噪音小、操作及维护方便等优点,抛盘直径大,适用于多种材料的抛光要求。在金相试样制备过程中,试样的抛光是一道主要工序,经过磨光的试样,在抛光机上抛光后,可获得光亮如镜的表面。PG-2C型金相试样抛光机是一款经典产品,双盘操作,可供双人同时操作,配备抛光用供水系统和易清污的抽屉式积污匣,具有传动平稳、噪音小、操作及维护方便等优点,抛盘直径大,适用于多种材料的抛光要求。试样夹盘半转设计,配合内侧照明系统,方便取放试样。

注意事项1.遇到电机堵转即按下开始键电机不转或磨盘正在转的情况突然因阻力过大磨盘不转了,这时要关掉电源开关过一分钟后重新上电系统才能正常工作,并找出堵转的原因,无刷电机缺相或霍尔开关的线断了松动也会造成电机不转。2.进气端不得连接油雾器。通电前先将气压调整好,若设备使用后需要关闭气源,需先将输出压力调整到0,再断电,***关闭气源。否则会出现“啪啪”的响声,影响电气元件寿命。3.注:气源不得有腐蚀性气体或者其他化学成分,气源若含有大量冷凝水会造成本产品动作不良等现象,应设置冷凝器,空气干燥器及冷凝水收集器等设施,在进气口前端连接精度在5um以下的空气过滤器,本产品配有一件5um的空气过滤阀,特别注意:此处不得连接油雾器),使用前将阀调至0.55mpa。4.将排水管道一段接入设备,另一端与污水处理器或者下水管道连接,管道如有折弯的地方防止下水管堵死,防止出水口高于磨抛机蓄水池。磨抛机是干什么的?磨抛机使用方法。快速磨抛机配件

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在金相试样制备和光谱分析应用中,试样的磨平是金相制样和光谱分析前必不可少的重要工序。GPM-2-300型光谱磨平机整机采用喷塑工艺制作,双盘duli控制,磨盘无级调速,独特罩壳设计可有效保障磨样安全,机箱内装有吸尘装置可避免环境污染,该机启动平稳、传动功率大、噪音低,可满足不同材料的制备要求,提高试样的磨抛质量和制备效率,是一种非常理想和功能完善的金相制样制备。1.无级调速控制;2.下方配有吸尘装置,可吸走磨削物;3.安全锁扣,1/4磨面,保护操作员;适用于光谱研究的试样磨平。宇舟磨抛机镶嵌粉

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