湖南电镜代理

  电子显微镜与光学显微镜的成像原理基本一样，所不同的是前者用电子束作光源，用电磁场作透镜。另外，由于电子束的穿透力很弱，因此用于电镜的标本须制成厚度约50nm左右的超薄切片。这种切片需要用超薄切片机（ultramicrotome）制作。电子显微镜的放大倍数比较高可达近百万倍、由照明系统、成像系统、真空系统、记录系统、电源系统5部分构成，如果细分的话：主体部分是电子透镜和显像记录系统，由置于真空中的电子* 、聚光镜、物样室、 物镜、衍射镜、中间镜、投影镜、荧光屏和照相机TESCAN产品和解决方案已经在全球微纳米技术领域取得了一定的地位。湖南电镜代理

透射电子显微镜(Transmission Electron

Microscope,简称TEM),可以看到在光学显微镜下无法看清的小于0.2um的细微结构，这些结构称为亚显微结构或超微结构。要想看清这些结构，就必须选择波长更短的光源，以提高显微镜的分辨率。1932年Ruska发明了以电子束为光源的透射电子显微镜，电子束的波长要比可见光和紫外光短得多，并且电子束的波长与发射电子束的电压平方根成反比，也就是说电压越高波长越短。目前TEM的分辨力可达0.2nm。

深圳市新则兴科技有限公司成立于2004年，自成立以来一直致力于成为客户信赖的实验室整体解决方案提供商。代理国际**品牌实验室仪器设备：法国普锐斯PRESI金相制样设备、德国徕卡显微镜LEICA、苏州慧利HOOL激光干涉仪、日本日立HITACHI超声波扫描显微镜、捷克泰思肯TESCAN扫描电镜等系列产品。产品线囊括金相制样各个步骤所需的设备以及金相耗材 湖南电镜代理深圳市新则兴科技有限公司成立于2004年，专注于代理国外质量的金相制样设备.

从上至下，TEM包含有一个可能由钨丝制成也可能由六硼化镧制成的电子发射源。对于钨丝，灯丝的形状可能是别针形也可能是小的钉形。而六硼化镧使用了很小的一块单晶。通过将电子与高达10万伏-30万伏的高电压源相连，在电流足够大的时候，电子将会通过热电子发射或者场电子发射机制将电子发射入真空。该过程通常会使用栅极来加速电子产生。一旦产生电子，TEM上边的透镜要求电子束形成需要的大小射在需要的位置，以和样品发生作用。深圳市新则兴科技有限公司成立于2004年，自成立以来一直致力于成为客户信赖的实验室整体解决方案提供商。代理国际有名品牌实验室仪器设备：法国普锐斯PRESI金相制样设备、德国徕卡显微镜LEICA、苏州慧利HOOL激光干涉仪、日本日立HITACHI超声波扫描显微镜、捷克泰思肯TESCAN扫描电镜等系列产品。

 扫描电子显微镜(SEM) 是一种介于透射电子显微镜和光学显微镜之间的一种观察手段。其利用聚焦的很窄的高能电子束来扫描样品, 通过光束与物质间的相互作用, 来激发各种物理信息, 对这些信息收集、放大、再成像以达到对物质微观形貌表征的目的。新式的扫描电子显微镜的分辨率可以达到1nm;放大倍数可以达到30万倍及以上连续可调;并且景深大, 视野大, 成像立体效果好。此外, 扫描电子显微镜和其他分析仪器相结合, 可以做到观察微观形貌的同时进行物质微区成分分析。扫描电子显微镜在岩土、石墨、陶瓷及纳米材料等的研究上有广泛应用。因此扫描电子显微镜在科学研究领域具有重大作用。

新则兴一直致力于成为客户信赖的实验室整体解决方案提供商，代理国际**品牌实验室仪器设备.;

透射电镜的总体工作原理是：由电子*发射出来的电子束，在真空通道中沿着镜体光轴穿越聚光镜，通过聚光镜将之会聚成一束尖细、明亮而又均匀的光斑，照射在样品室内的样品上；透过样品后的电子束携带有样品内部的结构信息，样品内致密处透过的电子量少，稀疏处透过的电子量多；经过物镜的会聚调焦和初级放大后，电子束进入下级的中间透镜和第1、第2投影镜进行综合放大成像，终被放大了的电子影像投射在观察室内的荧光屏板上；荧光屏将电子影像转化为可见光影像以供使用者观察。本节将分别对各系统中的主要结构和原理予以介绍。深圳市新则兴科技,一直致力于成为客户信赖的实验室整体解决方案提供商,专注于代理国外质量的金相制样设备!湖南电镜代理

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 TESCAN MAIA3辨场发射扫描电镜TriSETM技术具有三个SE探测器，对所有工作模式下采集二次电子信号都进行了优化。位于镜简内部的In-BeamSE探测器能在短工作距离下采集二次电子。用于电子束减速模式下的SE(BDM)探测器用于分辨成像。In-Chamber SE探测器能提供形貌衬度电子束减速技术(BDT)能在低至50eV的低电压下，也仍具有出色的分辨率(选配)电子束实时追踪技术可对电子束实现实时优化扩展的低真空模式样品室气压能达到500Pa，可用于不导电样品的成像分辨率0.7@15keV, 1.0nm@ 1keV浸没式物镜系统和无交叉电子束模式结合在一起，可在低能量下实现超辨成像。浸没式物镜能在样品周围产生强磁场，降低了像差。而无交叉电子束模式则降低了Boersch效应，对电子束进行进一步的优化，终达到1.0nm@1keV的分辨率。低电压成像电子束减速技术(BDT)包括了电子束减速模式(BDM)，以及在这个模式下可同步获取二次电子和背散射电子信号的高质量的透镜内探头。在电子束减速模式下，通过加在样品台，上的负偏压使得电子束在作用到样品表面前降低能量。比较低的着陆电压可以降低到50eV(在手动控制"下可以降到0eV)。

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