芯片图形激光常见问题

常见、有代表性的激光应用之激光光谱：以激光为光源的光谱技术。与普通光源相比，激光光源具有单色性好、亮度高、方向性强和相干性强等特点，是用来研究光与物质的相互作用，从而辨认物质及其所在体系的结构、组成、状态及其变化的理想光源。激光的出现使原有的光谱技术在灵敏度和分辨率方面得到很大的改善。由于已能获得强度极高、脉冲宽度极窄的激光，对多光子过程、非线性光化学过程以及分子被激发后的弛豫过程的观察成为可能，并分别发展成为新的光谱技术。激光光谱学已成为与物理学、化学、生物学及材料科学等密切相关的研究领域。应用于芯片制造的光掩膜为高敏感度的铬版。芯片图形激光常见问题

激光工艺：

经过近20年的发展，目前比较成熟的工艺分为六种：Decap EMC 激光开封环氧树脂塑模封装Gel Removal 激光去除硅胶封装Cross section 激光剖面芯片De-lidding 激光开盖金属陶瓷封装Eco-Blue 激光光化学法无损晶圆开封De-layering 激光逐层剥离微加工。

激光开封是利用激光聚焦能量，汽化EMC(epoxy mould compound)塑封层的工艺。可替代传统的微型CNC机械磨除方法，结合GEL-BLUE工艺，可代替开封的后续滴酸工艺。

激光去除硅胶封装，是利用远红外激光器，汽化silicagel，结合GEL-BLUE溶液，完美除胶直达晶圆层。目前应用的IC主要类型有LED、IGBT、以及高压功率芯片。

成都芯片图形激光激光开封机主要应用有哪些呢？

半导体业的铜引线封装越来越成为发展主流，传统的化学开封已无法完全满足铜引线封装的开封要求。激光开封机的诞生给分析领域带来了新的技术。

激光开封机特点：

1、对铜引线封装有很好的开封效果

2、对复杂样品的开封极为方便

3、可重复性、一致性极高

、电脑控制开封形状、位置、大小、时间等，操作便利

5、对环境及人体污染伤害较小，安全性高

6、几乎没有耗材，使用成本很低

7、体积较小，容易摆放

激光开封机是怎么操作的？开封，开盖，开帽，指给完整封装的IC做局部腐蚀，使得IC可以暴露出来，同时保持芯片功能的完整无损，保持 die，bond pads，bond wires乃至lead-frame不受损伤，为下一步芯片失效分析实验做准备，方便观察或做其他测试（如FIB，EMMI）， Decap后功能正常。

常见、有代表性的激光应用之激光成型：将激光加工技术和计算机数控技术及柔性制造技术相结合而形成，多用于模具和模型行业。

常见、有代表性的激光应用之激光涂敷：在航空航天、模具及机电行业应用范围广。

常见、有代表性的激光应用之激光成像：通常是利用激光束扫描物体，将反射光束反射回来，得到的排布顺序不同，用图像落差来反映所成的像。激光成像具有超视距的探测能力，可用于水下成像、卫星激光扫描成像，遥感测绘等科技领域。

超快激光脉冲与材料的相互作用在材料加工和微加工中有潜在的应用。

半导体激光器失效机理与案例分析：

2）欧姆接触如果芯片和焊料存在较大的热失配，激光器在焊接或工作时会导致材料界面产生应力集中，进而引起焊料开裂或芯片裂损。此外，在焊接激光器时，芯片和焊料间存在焊接空隙会导致激光器发生失效，同时焊接中的焊料溢出也易导致PN结短路。

3）腔面退化腔面退化是激光器区别于其他微电子器件的一个失效模式。由于激光器有源区材料中含有Al或In元素，且当芯片设计制造工艺均匀性或一致性较差时，Al、In元素在高功率工作下会发生融化或再结晶，导致腔面出现杂质或缺陷，从而使该区域温度不断升高，面的电流密度继续增大导致该区域温度进一步升高，终导致灾变光学损伤。

4）环境污染环境污染是导致半导体激光器失效的外界因素，主要原因为灰尘、水汽、离子污染物等颗粒进入半导体激光器内部，附着在芯片表面引起短路或开路，导致器件失效。 激光应用之激光光谱；湖南激光切割

微纳加工-激光掩模版的作用；芯片图形激光常见问题

近年来，半导体激光器在医疗、传感、光学通讯、航空航天等领域的应用市场不断扩大，半导体激光器的种类和制造工艺也更加丰富多样。

许多新的应用领域要求半导体激光器具有更高的输出功率。增加输出功率主要有两种方式：1）提高芯片生长技术从而增加单发射腔半导体激光器输出功率。2）提阵列高半导体激光器发光单元的个数从而提高输出功率。为进一步提高光输出功率，提出了多种封装技术，其中包括多单管模组、水平叠阵、垂直叠阵、面阵。

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